光刻机巨头ASML上调2026全年营收指引

一、核心数据（7月2日官方更新）

1. 营收指引上调
原2026全年净销售额预期：340–390亿欧元
最新上调区间：360–400亿欧元，上下限同步抬升
2. 盈利与季度预期
全年毛利率维持51%–53% 高位；
二季度销售额预期84–90亿欧元，营收集中释放于下半年 。
3. 订单与产能基本面
2025年末在手未交付订单388亿欧元，高端EUV交付周期拉长；
2026年计划交付至少60台常规EUV，2027年EUV产能提升至80台/年；
高NA EUV（2nm及以下制程刚需）订单饱满，台积电、三星、英特尔提前锁定产能席位。

二、上调指引核心逻辑

1. AI算力设备需求刚性超预期
全球云厂商加码AI基建，GPU、HBM存储、先进逻辑芯片持续供不应求；台积电、三星、英特尔集体上调中长期扩产预算，大幅增加EUV、浸没式DUV采购量 。
2. 先进制程持续渗透
3nm扩产放量，2nm工艺进入量产爬坡，高NA EUV设备订单加速落地；存储厂商同步升级DRAM产线，增加光刻设备采购规模。
3. 需求韧性覆盖地缘出口管制风险
公司明确指引区间已充分计入全球出口管制潜在冲击，即便存在政策约束，晶圆厂扩产采购意愿仍显著强于前期预判，行业紧平衡至少延续至2027年后。

三、行业信号解读

1. 半导体设备景气度实锤
ASML是全球唯一EUV光刻机供应商，其营收指引为产业链核心风向标，直接证伪“AI资本开支见顶”市场担忧，验证上游设备长景气周期确立。
2. 先进制程扩产进入实质落地阶段
头部晶圆厂大额资本支出逐步转化为设备采购订单，EUV产能长期供不应求，设备厂商议价、盈利稳定性持续走强。
3. 产业链传导逻辑
上游光刻设备需求旺盛，将带动光刻胶、光学零部件、精密机械、特种气体等配套耗材同步放量；成熟制程DUV设备需求同步稳健增长。

四、补充要点

- 高NA EUV单台造价约4亿美元，用于1.4–2nm先进节点，交付周期超3年，短期无替代方案；
- 机构观点：AI算力投资周期拉长，存储芯片涨价周期共振，设备龙头中长期业绩确定性突出；国内半导体设备、光刻材料国产替代逻辑同步强化。

风险提示：全球地缘贸易政策变动、下游AI资本开支不及预期、终端消费电子需求疲软。
以上资讯仅供行业参考，不构成任何投资建议。