中国大陆在高端半导体空白掩膜版领域，国产化率长期以来几乎为0。国内企业此前主要集中于90nm以上的成熟制程，65nm以下先进制程国产化率不足15%，EUV级产品完全依赖进口。关键破局者~聚和材料：聚和材料目前是国内唯一能量产14纳米至90纳米制程的ArF/KrF级DUV（深紫外）空白掩膜版的企业。其通过收购韩国SKE（现LuminaMask）相关业务，一举打破日本垄断，填补了国内高端市场的空白。产品已通过SK海力士、TMC、迪思微、中微掩模等海内外头部客户量产验证。
聚和材料解决了“有没有核心原料”的问题，龙图光罩等解决了“能否用原料做出合格成品”的问题。两者共同构成了国产掩模版产业链的完整拼图。