🔥日本断供光掩膜版（Mask） 时间进展推演影响

🔥一个月：
1、新产品不能导入。
2、 产品升级无法流片（Tape-out）。
3、Mask损坏无法补做。
4、良率下降后无法重新制作优化版Mask。
5、研发几乎停滞。

🔥半年：影响会非常严重。
1、新芯片无法生产。
2、老Mask老化无法替换。
3、新工艺无法开发。
4、整个先进制造能力逐渐下降。
5、最终可能导致部分产品停产。

为什么Mask断供比很多材料更危险？

因为它具有几个特点：
1. 制造周期长
2. 制造门槛极高
3. 供应商非常少
4. 无法轻易替代

一个成熟工艺（90nm、65nm）可能需要20~40张Mask。
先进工艺（7nm、5nm、3nm）可能需要60~90张甚至100多张Mask，因为采用多重曝光和复杂工艺。

中国四大掩膜版：路维、龙图、清溢、冠石（唯一28量产）

掩膜版原材料：聚和材料（SK供应商 国产供应商）

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