【半导体光刻工艺耗材:掩膜版供应格局梳理】
一. 掩膜版概览
掩膜版又称光罩,是一种在高透光率透明基板上沉积特定图案层的的精密光学元件,主要作为半导体光刻工艺的图形转移母版。
光刻工艺步骤:晶圆清洗/烘干→涂覆光刻胶→掩膜版安装与对准....http://t.cn/AXo78cMO
发布于 四川
【半导体光刻工艺耗材:掩膜版供应格局梳理】
一. 掩膜版概览
掩膜版又称光罩,是一种在高透光率透明基板上沉积特定图案层的的精密光学元件,主要作为半导体光刻工艺的图形转移母版。
光刻工艺步骤:晶圆清洗/烘干→涂覆光刻胶→掩膜版安装与对准....http://t.cn/AXo78cMO