警惕日本光刻胶集体断供，切勿盲目乐观
日本四家光刻胶企业同步停止接收中国新订单，撤回在华技术售后团队，全方位切断供给，意图遏制我国先进芯片制程发展。光刻胶对日本如同稀土对我国，属于核心战略筹码，当年韩国三星就因日方断供被迫妥协，美德韩同样无法完全自主供给高端品类。
国内企业现有6至12个月安全库存，仅能短期缓冲，治标不治本。突围仅有三条路径：进口欧美光刻胶，但高端品类对方产能不足；第三方转口采购日货，成本大幅攀升；全力攻坚国产替代才是根本出路。
当前G线光刻胶已实现自给，28nm成熟制程配套胶可批量供货。用于14nm、28nm堆叠工艺的ArF光刻胶，获1.83亿国家大基金加码建厂研发，已有阶段性进展。但7nm、5nm所需EUV光刻胶，受设备、材料双重限制，短期暂无突破希望。
日方此举大概率想倒逼我国放宽稀土管控。唯有加速光刻胶技术自主，才能避免资源置换妥协，半导体国产攻关迫在眉睫。 http://t.cn/AXSgmzWD