【新闻当事股】光刻胶是半导体制造中技术壁垒最高、国产化率最低的核心材料之一。它直接决定芯片的图形精度，被誉为材料端"皇冠上的明珠"。其中ArF（193nm）光刻胶对应28nm及以下先进制程，长期被JSR、东京应化、信越、住友等日本厂商垄断，国内高端ArF国产化率不足5%。如今，日本接近“断供”先进光刻胶，让出中国市场，给包括南大光电在内的国内企业巨大商机。南大光电ArF光刻胶已实现批量供货并持续放量，多个产品进入主流晶圆厂的客户验证与导入流程。