【ASML造出一台最强光刻机，4亿美元一台，但它最大的客户还不想要】

#ASML# 的新一代#光刻机# EXE:5200B 重 150 多吨，体积超过 200 立方米，分辨率 8 纳米，大约 40 个硅原子的宽度。2026 年 5 月，ASML CEO Christophe Fouquet 宣布，用这台机器制造的首批芯片将在未来几个月内问世。单台售价 4 亿美元。

但在几乎同一时期，它最大的客户 TSMC 做出了一个让行业侧目的决定：至少到 2029 年，不采用这种被称为高数值孔径极紫外光刻（high-NA EUV）的新技术。TSMC 高级副总裁 Kevin Zhang 在 2026 年 4 月的北美技术论坛上表态，从 2nm 到 A14 工艺节点，TSMC 都不需要 high-NA EUV，同时可以继续保持类似的工艺复杂度。

这是 ASML 历史上第一次推出新一代机器时，最重要的客户明确说“不急”。芯片行业研究机构 SemiAnalysis 的分析师 Jeff Koch 评价：这可能是 ASML 历史上第一台无法立刻在商业逻辑上自证其价值的工具。

这 4 亿美元的定价到底从何而来？最近，《#麻省理工科技评论# 》（MIT Technology Review）对 ASML 荷兰总部做了深度探访，记者近距离观察了这台机器的制造过程，并采访了多位核心工程高管。从这些信息中可以发现，high-NA 的技术难度和成本结构已经与上一代 EUV 有了本质上的区别。

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