//@真心可鉴007:50年前ASML什么水平？//@石羊1972:1976 年国产接触式光刻机和现代芯片光刻机完全不是一类设备。早年靠汞灯、无投影镜头，只能做微米级简易电路，人工操作精度差；如今 DUV/EUV 用短波长激光、高精度投影光学，实现纳米制程，可量产高端芯片。二者光路、精度、配套产业链差距极大，不能混为一谈。
发布于 辽宁
统一瞭望者
//@真心可鉴007:50年前ASML什么水平？//@石羊1972:1976 年国产接触式光刻机和现代芯片光刻机完全不是一类设备。早年靠汞灯、无投影镜头，只能做微米级简易电路，人工操作精度差；如今 DUV/EUV 用短波长激光、高精度投影光学，实现纳米制程，可量产高端芯片。二者光路、精度、配套产业链差距极大，不能混为一谈。