【新一代光刻技术改写 AI 芯片制造上限】

人工智能的发展需要更强的计算芯片。4 月 2 日，《Nature》杂志报道了ASML 的下一代极紫外光刻系统（EUV）。这套设备利用更大的数值孔径、更高功率的极紫外光源和超高精度反射镜，可单次刻出约 8 纳米宽的结构，有望将晶体管密度提升约 2.9 倍。

参考文献：Breakthrough computer-chip tech could help meet ‘monumental demand’ driven by AI， Katherine Bourzac， Nature, 2026.4.2
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