續：http://t.cn/AXteyTjw

Intel 18A paper說從M0到M2光罩用量，包含trench (metal line)和Via 相比Intel 3減少29%

M0到M2有M0/V0/M1/V1/M2這五層，可以在（b)圖看到，在18A都使用1次EUV曝光，共五張光罩

所以可以反推Intel3在這五層共使用了7張光罩，那多出來的兩張是在哪裡呢？

一個就是之前我提的Intel 3 M0使用1張DUV SAQP+1 EUV cut共兩張光罩，所以在M0可以省掉一張光罩

另外減少的一張光罩我猜是在M2，Intel 3應該是用1 DUV SADP+1 EUV cut mask來做，所以這邊在18A可以再省下一張光罩用量

PS. 18A Panther Lake decap在這： http://t.cn/AXtDm798