#焦点新闻# 近日，台积电总经理在ICCAD - Expo 2025上表示，3nm是最终且最优异的FinFET技术，N3E已实现旗舰移动及HPC/AI产品量产，截至9月已获约100份NTO，预计会成为高产量、长期运行的制程节点http://t.cn/AXyzgyt7 _新浪新闻

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25-12-01 08:59 微博认证：大联大商贸有限公司

#焦点新闻# 近日，台积电总经理在ICCAD - Expo 2025上表示，3nm是最终且最优异的FinFET技术，N3E已实现旗舰移动及HPC/AI产品量产，截至9月已获约100份NTO，预计会成为高产量、长期运行的制程节点http://t.cn/AXyzgyt7

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