刻蚀是半导体图案化过程的核心工艺,刻蚀机为半导体制造三大核心设备之一。LAM、应用材料、东京电子等企业占据了刻蚀机市场的主导地位。国内北方华创、中微公司等企业在刻蚀机领域具有较强竞争力。
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发布于 浙江
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