【第二届「艺术科技人才驻场计划」正式开展】
因应近年艺术及创意产业中融合艺术与创新科技的新趋势,本局早前推出第二届「艺术科技人才驻场计划」,邀请年轻艺术科技人才提交艺术科技相关项目计划书。第二届计划已于5月1日正式开展,为期一年,共支持14个具潜力的创作项目。获资助者已与业内经验丰富的艺术家配对,并进驻位于黄竹坑ADC艺术空间 (Landmark South) 的共享工作室进行实验性创作、交流及分享。
本局较早前于共享工作室与14位获资助者见面及举行计划简介会。期待艺术家于创作中期及后期的成果分享🚀✨。
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