一种很新的方式产生极紫外光（EUV）光源。

在《自然》杂志发表的一项原理验证实验之后，一种新的高功率极紫外 (EUV) 光源——稳态微聚束 (SSMB) 即将出现。通讯作者唐传祥表示，SSMB EUV 的潜在能力可用于在半导体电路上蚀刻更复杂的图案，这些图案用于在设备中存储和传输数据。

身为清华大学工程物理系教授的唐传祥解释道：“高功率 EUV 源对于使用 EUV 光刻技术进行大批量制造至关重要。” EUV 光刻通过绕过多重图案化（目前用于获得更精细电路图案分辨率的多重曝光方法）来减少制造电路所需的步骤。但唐表示，功率是实现可行的 EUV 光刻的关键，因为光学系统是反射式的，11 次反射中每一次的功率损耗都超过 30%。 http://t.cn/A6O0whHi